Ученые НИЯУ МИФИ разработали и запатентовали промышленный датчик водорода

"Группой сотрудников и студентов Института лазерных и плазменных технологий НИЯУ МИФИ разработан оригинальный промышленный датчик водорода, способный работать при высоких температурах (от 150 до 450 градусов по Цельсию), характерных для многих технологических процессов в энергетике, химической промышленности и металлургии", - говорится в сообщении.

По словам руководителя команды разработчиков, старшего преподавателя Института лазерных и плазменных технологий НИЯУ МИФИ Алексея Соловьева, такие датчики могут пригодиться на атомных электростанциях, в которых вода циркулирует часто при очень высоких температурах - свыше 300 градусов, а также на производствах аммиака на основе которого создаются азотные удобрения.

"В основе разработанного в МИФИ датчика находится композитный материал, включающий подложку из карбида кремния, на которую напыляется тонкая пленка оксида вольфрама. При взаимодействии с водородом у оксида вольфрама меняются электрофизические свойства. Измеряя электрическое сопротивление данного композита можно делать выводы о наличие водорода в окружающей среде", - уточняется в сообщении.

В МИФИ отмечают, что в настоящее время технология ученых уже запатентована и испытана в лабораториях МИФИ. Летом планируется провести испытание прибора в условиях повышенного содержания водорода на полигоне МФТИ.

Кроме того, ученые НИЯУ МИФИ разрабатывают другой датчик водорода, способный работать при еще более высоких температурах: от 450 до 850 градусов. Основой этого датчика будет подложка из сапфира с напыленными на нее зонами разных металлов и сплавов. Уровень водорода будут определять путем измерения разности потенциалов между двумя материалами. В первую очередь, высокотемпературный датчик предназначен для металлургических производств госкорпорации "Росатом". В настоящее время технология второго датчика проходит процедуру патентования.